高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
本套高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)具有計算機可編程控制多層鍍膜系統(tǒng)，可實現(xiàn)程序自動控制的多層薄膜的蒸鍍。真空腔體為Ф500×600（mm）不銹鋼半圓柱形,極限真空度≤5.0×10-7Pa。蒸發(fā)室U型前快開門密封方式，外表采用噴丸和電解拋光工藝處理，真空室內部全表面有不銹鋼防污板。
高真空蒸發(fā)鍍膜
該設備為方型室蒸鍍設備，可滿足用戶實現(xiàn)單質膜，多層膜及鍍制復合膜的工藝要求。蒸鍍室是以電阻加熱的方式實現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜功能的，它是在高真空條件下，通過加熱材料的方法，在需鍍襯底上蒸鍍各種金屬單層或多層膜，適用于實驗室制備金屬、氧化物、介質、掃描電鏡制樣等，也可用作教學及生產線前期工藝試驗等，整套設備操作簡便，綜合功能多，擴展空間大，適合及滿足院校的教學與科研
高真空蒸發(fā)鍍膜
該設備為方型室蒸鍍設備，可滿足用戶實現(xiàn)單質膜，多層膜及鍍制復合膜的工藝要求。蒸鍍室是以電阻加熱的方式實現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜功能的，它是在高真空條件下，通過加熱材料的方法，在需鍍襯底上蒸鍍各種金屬單層或多層膜，適用于實驗室制備金屬、氧化物、介質、掃描電鏡制樣等，也可用作教學及生產線前期工藝試驗等，整套設備操作簡便，綜合功能多，擴展空間大，適合及滿足院校的教學與科研
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