MJCK-500高真空磁控濺射鍍膜系統性能指標

　　1.高真空磁控濺射鍍膜系統：廠商沈陽美濟真空科技有限公司。（品牌：美濟真空）型號MJCK-500，產品實用可靠，自動化程度高，整套設備操作簡便，綜合功能多，擴展空間大，熱處理部分也在原來的設備基礎上全面改進升級了，完全滿足國內高等院校和科研院所的需要。

　　2.設備技術要求：

　　系統主要由四靶濺射室、進樣室、2英寸非磁濺射靶和2英寸磁性靶，靶頭傾角可調并可換（電動升降），并配有可電腦編程控制電動擋板，直流電源、射頻電源、樣品庫、清洗靶、樣品加熱冷卻轉臺、電動磁力送樣機構。

　　2.1、 濺射室

　　2.1.1、為約Ф500×450（mm）不銹鋼圓柱形腔體。極限真空可達5×10-5Pa,濺射室上蓋密封方式，外表采用噴丸和電解拋光工藝處理，上蓋電動提升，真空室內設有不銹鋼防污板。

　　2.1.2、下面裝有4個磁控靶(RF兼容，其中2個磁性靶，靶擋板可電腦編程控制開關狀態和時間)；磁控靶有水冷系統冷卻，使永磁鐵處于常溫狀態;所鍍膜層控精度可達0.01nm 。

　　2.1.3、真空室可內烘烤150～200℃。

　　2.2、樣品臺

　　2.2.1、可放置1片Ф50mm樣片拖。樣片架可公轉、自轉和翻轉三維度旋轉，自轉速度0～50轉/分，靶基距雙向調節30-180mm。

　　2.2.2、基片加熱最高溫度1700℃，控溫精度±0.5○C。由鉑銠偶閉環反饋控制；程序控溫，升溫速率可控范圍0.1-5℃/s，降溫速率可控范圍（5-50℃/s），恒溫時間可控（幾分鐘到幾十小時）。基片可在同位降溫熱處理。原位熱處理不會互相干擾。具有電動控制基片擋板。

　　2.3、進樣室

　　2.3.1、為約Ф450×450（mm）不銹鋼水平圓柱形腔體，外表采用噴丸和電解拋光工藝處理；

　　2.3.2、進樣室下方配有離子清洗。

　　2.4、樣品庫

　　2.4.1、樣品庫在進樣室的上方安裝，庫內可放6塊Ф50樣品；

　　2.4.2、樣品由進樣室前面帶有玻璃觀察窗的門中放到樣品庫中，由進樣室樣品送樣機構將其傳遞到濺射室中。當鍍膜完成后，再由磁力送樣機構將其從濺射室中取下，自動送回到樣品庫中。

　　2.5、MJCK-500高真空磁控濺射鍍膜系統現貨價：90萬元人民幣。