高真空蒸發鍍膜系統

　　1、本套高真空蒸發鍍膜系統具有計算機可編程控制多層鍍膜系統，可實現程序自動控制的多層薄膜的蒸鍍。

　　2、真空腔體為Ф500×600（mm）不銹鋼半圓柱形,極限真空度≤5.0×10-7Pa。蒸發室U型前快開門密封方式，外表采用噴丸和電解拋光工藝處理，真空室內部全表面有不銹鋼防污板。

　　3、前面裝有DN100擋板觀察窗,一個四芯引線，CF35預抽法蘭，二個進氣閥法蘭等。下面裝有1套6源1500℃蒸發源系統，并配有蒸發源口的旋轉擋板。

　　4、蒸發源與基片距離調節范圍150～450mm，鍍膜速率和時間可控。

　　5、 可放置23片Ф50.8mm樣片，也可更換6片Ф100樣片或3片Ф150樣片，每種配一套厚度0.5mm材質304的樣片。每種樣品都具有防止掉落的快速鎖緊，并且方便快速取出。樣品臺可旋轉，自轉速度0～50轉/分，膜厚均勻性≤±3%。

　　6、基片加熱溫度范圍室溫～最高1700℃，由熱電偶閉環反饋控制, 導電PID智能控溫，控溫精度±0.5℃。

　　7、蒸發鍍膜工藝室極限真空度≤5.0×10-7Pa(經烘烤除氣后，24小時內)；真空室漏率7×10-11Pa.L/S； 蒸發鍍膜工作真空1.0×10-2Pa -1.0×10-4Pa，由大氣狀態下抽到在30分鐘內；工作真空狀態下充入氮氣，下次再抽到6.0×10-4Pa需小于10分鐘；系統停泵關機12小時后真空室真空度≤5Pa。

　　8、高真空蒸發鍍膜系統現貨價：90萬元人民幣。