磁控濺射與分子束外延
濺射設備主體均為優質不銹鋼制造，耐腐蝕、抗污染、漏率小;設備電控部分采用了先進的檢測和控制系統，配置了較先進的PLC觸摸編程控制，為用戶做多層膜提供了良好的設備功能保證，且保證了設備各功能的穩定和方便操作。性能穩定、可靠；設備布局合理，提高了利用率和穩定性，減少了對環境的干擾；控制面板的設計考慮了美觀和適用的結合，使面板操作指示明確，觀察舒適、操作方便。
磁控濺射與蒸發鍍膜
極限真空：2×10-6Pa。可鍍最大直徑4英寸基片一片。恢復真空：從大氣到7×10-4Pa ≦30min（新平臺充干燥氮氣）。平臺總體漏率：關機12小時真空度≤1Pa。分子束外延設備性能參數：
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